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溫控和移動平臺LFT1200C-VI設備設計為方便加熱爐取放物料，采用鋼絲提拉方式，伺服電機經過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度進行轉動提拉，提拉速度可調（慢檔：0.1-10mm/h；快檔：100-500mm/min）。以型材為主體結構設計，方便對進行提拉固定位置的調整

開啟式真空管式爐紅外熱循環(huán)試驗機設備為1200℃開啟式真空管式爐，不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件為單端封口石英管，紅外燈管環(huán)形分布于爐膛四周，升降溫速率快，溫場均勻。

LFT1200C小型真空管式爐* 主要行業(yè)有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業(yè)進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分測量等場合。

LFT1400C-II高溫高壓管式爐現貨，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側，溫場均勻可靠。

雙溫區(qū)真空管式爐（分體式）批發(fā)該設備為雙溫區(qū)管式爐，加熱部分于電控部分相分離，有效延長電子元器件使用壽命，該設備為開啟式結構設計，石英管橫穿于整個爐膛，環(huán)型加熱，確保溫場均勻可靠。

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